Магистратура
2025/2026
Специальный практикум по технологическим основам создания наноструктур
Статус:
Курс обязательный (Прикладная электроника и фотоника)
Кто читает:
Департамент электронной инженерии
Когда читается:
2-й курс, 1, 2 модуль
Охват аудитории:
для своего кампуса
Язык:
русский
Программа дисциплины
Аннотация
Целью освоения дисциплины является развитие у студентов профессиональных компетенций и навыков самостоятельной исследовательской работы в области производственно-технологической деятельности. В процессе выполнения лабораторных работ студенты познакомятся с методами осаждения тонких пленок металлов и диэлектриков – термическое испарение, магнетронное распыление, напыление с использованием сфокусированного электронного луча; с методы фотолитографии при создании структур с планарными размерами 1 мкм; с электронной литографией для создания тонкопленочных структур нанометровых планарных размеров и с методами травления тонких металлических пленок: химическим , плазмо-химическим, ионным. Освоят первичные методы контроля сверхпроводниковых пленок и структур – измерения критической температуры и ширины сверхпроводящего перехода; определение плотности критического тока. При обучении предусмотрен контроль знаний студентов в виде учета активности студентов в ходе проведения практических занятий и экзамена. Для прохождения курса нужно знание основных законов классической и современной физики; владение простейшими методами решения физических задач и навыками работы с измерительными приборами на уровне бакалавриата МИЭМ.